晶圓傳輸平臺是半導體工藝設備的構成部分,主要實現晶圓在潔凈環境以及真空環境下在不同模塊下的自動化傳輸,晶圓傳輸平臺可以快速在大氣及真空狀態進行切換,滿足系統工藝需求。 該設備主要由用于實現晶圓在工藝過程中在不同工藝模塊之間的傳輸。本系統包括前段用于實現上料功能,存放片盒(Cassette,用于承裝6寸或8寸的晶圓)的VCE(Vacuum Cassette Elevator,真空片盒升降機),平臺真空腔室,真空機械手(Vacuum Robot),真空對準器(Aligner),Cooler冷卻組件,晶圓分離組件(WSM)等部件構成。用于實現6吋/8吋晶圓的傳輸。設備內部帶有多重互鎖保護,保障晶圓傳輸過程中,人員與設備的安全。
創新點
雙重傳輸方式
檢測托環偏移
位置校準
應用領域
半導體顯示
半導體照明
功率半導體
技術指標
潔凈度 | ISO Class 1 |
晶圓規格 | 150mm/200mm Si |
晶圓規格 | 300mm標準晶圓(Si) |
設備本底真空 | <1Torr |
設備漏率 | 傳輸腔<15mT/min,VCE<2mT/min |
機械手傳片精度 | <±0.1mm |
傳片壓力 | 50mbar (可根據工藝要求進行實時控壓) |
PM取片溫度 | < 600℃ |
真空機械手 | Z軸行程35mm,最遠伸出距離1010mm |